GTH-1150红外镀膜机
GTH-1150红外镀膜机
GTH系列红外光学真空镀膜设备适用于在Ge,Si, ZnSe, ZnS, 种种硫系玻璃等基材上镀膜 。包括：增透膜，滤色片，分光膜，�；つさ� 。具有光谱重复性好，薄膜吸收小及膜层附着力良好的特点 。
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GTH-1150红外镀膜机
产品描述
GTH系列红外光学真空镀膜设备适用于在Ge,Si, ZnSe, ZnS, 种种硫系玻璃等基材上镀膜 。包括：增透膜，滤色片，分光膜，�；つさ� 。具有光谱重复性好，薄膜吸收小及膜层附着力良好的特点 。
设备特点：
· 腔体尺寸φ900-φ1600mm
· 使用GTHC-8型空心阴极霍尔离子源
· 搭载单电子枪/环形坩埚和多点阻蒸
· ACS全自动镀膜控制系统实现全自动镀膜历程
· 工件架可选择球伞式、行星式
· 排气系统低真空泵组+高真空泵组+深冷
| 真空腔室尺寸 | SUS304 φ1150mmx1300mm（H） |
| 工件盘有效镀膜尺寸 | φ1042mm、行星订购时说明 |
| 基板回转速度 | 3r/min-30r/min(可变) |
| 晶振膜厚仪 | XTC-3/MXC-3+6/16点晶控 |
| 蒸起源1 | 6/8位旋转阻蒸、3位独立阻蒸 |
| 蒸起源2 | E型电子枪1套 |
| 离子源 | GTHC-8 |
| 真空排气 | 机械泵+分子泵/低温泵/+深冷捕集泵 |
| 极限真空 | 8.0x10-5Pa |
| 排气时间 | 大气-3.0x10-3Pa/12min/常温空载 |
| 基板温度 | 最高350℃ |
| 空间要求 | 约2.7m（宽）x4.6m（深）x2.7m（高） |
| 电源要求 | 3相4线380v50Hz、约60kw |
| 冷却水要求 | 100L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃ |
| 压缩空气 | 0.6MPa |
| 设备重量 | 约4500kg |
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