凯发一触即发真空国产高端射频离子源GTRF-17和GTRF-23，强势助力光学镀膜行业生长，打造全球一流光学设备制造商
- 分类：公司新闻
- 作者：
- 来源：凯发一触即发
- 宣布时间：2022-06-06
- 会见量：5264
【提要描述】射频离子源主要用于精密光学镀膜，它具有能量高、能量漫衍均匀性好、事情时间长、污染小等优点 。射频离子源由射频电源供电，并通过匹配器进行自动匹配，爆发等离子体，在栅网作用下引出离子束 。射频离子源在镀膜领域的主要应用是：离子束辅助沉积和离子束清洗等 。
凯发一触即发真空国产高端射频离子源GTRF-17和GTRF-23，强势助力光学镀膜行业生长，打造全球一流光学设备制造商
【提要描述】射频离子源主要用于精密光学镀膜，它具有能量高、能量漫衍均匀性好、事情时间长、污染小等优点 。射频离子源由射频电源供电，并通过匹配器进行自动匹配，爆发等离子体，在栅网作用下引出离子束 。射频离子源在镀膜领域的主要应用是：离子束辅助沉积和离子束清洗等 。
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- 来源：凯发一触即发
- 宣布时间：2022-06-06
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2021年，什么事件值得影象?2022年，行业哪些生长将要面对?关于凯发一触即发真空来说，2021年初强势推出两款大功率射频离子源GTRF-17和GTRF-23，是凯发一触即发技术团队全自主研发近3年时间研发出的高端国产射频离子源，突破了制造商对镀膜行业的技术封闭，同时也激励了同行制造业 。
GTRF-17和GTR-F23两款射频离子源经过一年的时间大规模投入市场，资助了众多客户提升产品品质，提高整体生产率，为光学制造业企业带来了一定效益，凯发一触即发真空一直大力积极推进科技立异，为光学镀膜行业蓬勃生长而献力 。
▲凯发一触即发真空离子源装配间实拍
下面为凯发一触即发真空GTRF-17和GTRF-23射频离子源介绍：
关于凯发一触即发射频离子源
射频离子源主要用于精密光学镀膜，它具有能量高、能量漫衍均匀性好、事情时间长、污染小等优点 。射频离子源由射频电源供电，并通过匹配器进行自动匹配，爆发等离子体，在栅网作用下引出离子束 。射频离子源在镀膜领域的主要应用是：离子束辅助沉积和离子束清洗等 。
凯发一触即发两款射频离子源主要技术指标
凯发一触即发射频离子源源头装置结构
▲GTRF-17射频离子源源头装置结构
▲GTRF-23射频离子源源头装置结构
操作主界面
凯发一触即发射频离子源工艺测试总结
离子源配置结构
离子源IR-CUT工艺参数
IR-CUT外观检测结果：
1、1-7圈整体透亮外观一致;
2、无发雾、发黑等不良外观现象 。
镀制后，1-7圈无发雾现象如上图，灯光下检查外观，镜片整体透亮正常 。
▲1-7圈实测曲线
IR-CUT水煮前后比照
▲恒温水浴锅，100℃水煮2小时，水煮前后曲线基本无变革，镜片使用3M胶带拉扯后未发明脱膜现象
射频离子源通过革新能量和电流的均匀性，提高了膜层的聚集密度和质料的氧化度，从而抑制膜层的温度漂移及波长漂移!同时解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题 。
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