高精度镀膜——RF离子源
- 分类：公司新闻
- 作者：
- 来源：凯发一触即发
- 宣布时间：2022-01-04
- 会见量：913
【提要描述】凯发一触即发真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束偏向性，支持离子束流和能量划分独立控制。具有事情时间长，能量高，均匀区大，污染小等优点。
高精度镀膜——凯发一触即发真空RF射频离子源
凯发一触即发真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束偏向性，支持离子束流和能量划分独立控制。具有事情时间长，能量高，均匀区大，污染小等优点。
高精度镀膜——RF离子源
【提要描述】凯发一触即发真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束偏向性，支持离子束流和能量划分独立控制。具有事情时间长，能量高，均匀区大，污染小等优点。
- 分类：公司新闻
- 作者：
- 来源：凯发一触即发
- 宣布时间：2022-01-04
- 会见量：913
凯发一触即发真空全自主研发几年时间
设计出GTRF-17和GTRF-23两款大功率RF离子源，
提供高质量薄膜和稳定的工艺操作。
RF离子源-首先使用13.56MHz高频信号激励电离子体，
爆发等离子体，然后划分抽出离子、电子，
让其在空间内中和形成等离子体的高能离子源。
主要运用于高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积
凯发一触即发真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束偏向性，支持离子束流和能量划分独立控制。
具有事情时间长，能量高，均匀区大，污染小等优点。
水煮15分钟，曲线无基本变革;镜片粘拉后未发明膜掉情况
射频离子源通过革新能量和电流的均匀度，
提高了膜层的聚集密度和质料的氧化度。
抑制温度漂移、波长漂移以及解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题。
适用于半导体、航天、光通讯、医疗、传感器等多个高端镀膜应用。
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