凯发一触即发真空国产高端射频离子源GTRF-17和GTRF-23,强势助力光学镀膜行业生长,打造全球一流光学设备制造商
- 分类:公司新闻
- 作者:
- 来源:凯发一触即发
- 宣布时间:2022-01-04
- 会见量:635
【提要描述】凯发一触即发真空技术团队全自主研发近3年时间,研发出两款大功率GTRF-17和GTRF-23射频离子源,经过一年大规模投入市场,资助了众多客户提升产品品质,提高整体生产率,为光学制造业企业带来了效益。
凯发一触即发真空国产高端射频离子源GTRF-17和GTRF-23,强势助力光学镀膜行业生长,打造全球一流光学设备制造商
【提要描述】凯发一触即发真空技术团队全自主研发近3年时间,研发出两款大功率GTRF-17和GTRF-23射频离子源,经过一年大规模投入市场,资助了众多客户提升产品品质,提高整体生产率,为光学制造业企业带来了效益。
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- 来源:凯发一触即发
- 宣布时间:2022-01-04
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2021年,什么事件值得影象?2022年,行业哪些生长将要面对?关于凯发一触即发真空来说,2021年初强势推出两款大功率射频离子源GTRF-17和GTRF-23,是凯发一触即发技术团队全自主研发近3年时间研发出的高端国产射频离子源,突破了制造商对镀膜行业的技术封闭,同时也激励了同行制造业。
GTRF-17和GTR-F23两款射频离子源经过一年的时间大规模投入市场,资助了众多客户提升产品品质,提高整体生产率,为光学制造业企业带来了一定效益,凯发一触即发真空一直大力积极推进科技立异,为光学镀膜行业蓬勃生长而献力。
▲凯发一触即发真空离子源装配间实拍
下面为凯发一触即发真空GTRF-17和GTRF-23射频离子源介绍:
关于凯发一触即发射频离子源
射频离子源主要用于精密光学镀膜,它具有能量高、能量漫衍均匀性好、事情时间长、污染小等优点。射频离子源由射频电源供电,并通过匹配器进行自动匹配,爆发等离子体,在栅网作用下引出离子束。射频离子源在镀膜领域的主要应用是:离子束辅助沉积和离子束清洗等。
凯发一触即发两款射频离子源主要技术指标
凯发一触即发射频离子源源头装置结构
▲GTRF-17射频离子源源头装置结构
▲GTRF-23射频离子源源头装置结构
操作主界面
凯发一触即发射频离子源工艺测试总结
离子源配置结构
离子源IR-CUT工艺参数
IR-CUT外观检测结果:
1、1-7圈整体透亮外观一致;
2、无发雾、发黑等不良外观现象。
镀制后,1-7圈无发雾现象如上图,灯光下检查外观,镜片整体透亮正常。
▲1-7圈实测曲线
IR-CUT水煮前后比照
▲恒温水浴锅,100℃水煮2小时,水煮前后曲线基本无变革,镜片使用3M胶带拉扯后未发明脱膜现象
射频离子源通过革新能量和电流的均匀性,提高了膜层的聚集密度和质料的氧化度,从而抑制膜层的温度漂移及波长漂移!同时解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题。
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